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    12寸工业级全自动CMP抛光机

    12寸工业级全自动CMP抛光机-1
    品牌:CTS

     型号:AIP-300

     产地:韩国

     关键字:化学机械抛光机、工业级化学机械抛光机、全自动化学机械抛光机

    n产品简介

          韩国CTS公司的AIP-300CMP抛光机是一款12寸工业级CMP系统,可兼容8寸,12寸样品,可用于工厂及批量生产。

    n产品主要特色

     

     

     

     

     

     

     

     

     

     

     

     

    - CMP抛光头:采用气囊加载模式,5区压力独立控制,可得到良好的工业级抛光效果;

    - 自动上下片,自动抛光,干进干出。

    - 抛光垫修整器:摆臂式设计,由13个传感器分别控制13个区域的下压力,可保证抛光垫高水平修整;

    - 抛光垫修整器:具有在线修整与离线修整两种模式。

    - 工艺数据可实时监测。

    - 可存储多个Recipe。

    - 带两个手臂

    -带全自动后清洗???/span>

     

    n核心技术参数

     

    抛光头

    兼容8寸,12

    抛光头数量

    2/4

    抛光头摆动范围

    ±15mm

    抛光头转速

    0 ~ 200 rpm

    抛光头加压方式

    气囊柔性加压背压功能(5区加压)

    抛光头压力范围

    0.14 ~ 14 psi

    抛光盘尺寸

    30英寸

    抛光盘数量

    1/2

    抛光盘转速

    0 ~ 200 rpm

    蠕动泵

    2

    抛光液流速

    0 ~ 500 cc/min

    抛光垫修整器分区

    13

    抛光垫修整器在线扫描速度

    10sweeps/min

    抛光垫修整器下压力

    3-20lbs

    抛光垫修整器转速

    0-150rpm

    CMP后片内非均匀性WIWNU

    1sigma,去边5mm

    < 5%

    CMP后片间非均匀性WTWNU

    1sigma,去边5mm

    < 3%

    全自动机械臂

    2

    后清洗系统

    包含高压DIW冲洗,双面PVA刷洗,化学液清洗,高速甩干等功能。

    冷却系统

    包含

    EFEM

    包含

     

     

     

    n应用案例

     

    CMP工艺 Si CMP, 氧化物 CMP(BPSG, TEOS, ThOx), 金属 CMP(W, Cu), 介质膜,STI

    创建时间:2021-02-05 21:28

    产品中心

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